INFLUENCIA DE LOS PARÁMETROS DE DEPOSICIÓN EN LA COMPOSICIÓN DE RECUBRIMIENTOS DE ZnCo Translated title: INFLUENCE OF THE DEPOSITION PARAMETERS ON THE ZnCo COATINGS COMPOSITION

Abstract

En el presente trabajo se estudió la morfología y la estructura cristalina de electro-depósitos de ZnCo, obtenidos mediante la aplicación de corriente modulada o corriente continua. El baño de deposición utilizado contenía iones cloruro y eran de carácter ácido. La morfología y la estructura cristalina del depósito fueron analizadas mediante Microscopia Electrónica de Barrido y Difracción de Rayos X, respectivamente, mientras que su composición química se obtuvo, utilizando Inductively Coupled Plasma Spectroscopy (ICP). Los resultados experimentales mostraron que la morfología de los codepósitos era independiente de los parámetros de deposición, más no su contenido de cobalto. Los codepósitos obtenidos con corriente modulada, presentaron mayor concentración de cobalto y orientación cristalina diferente de aquéllos generados con corriente continua. La cantidad de aditivos necesaria en el baño, fue menor cuando se utilizó corriente modulada.

Translated abstract

The main purpose of this paper was to study the morphology and crystalline structure of a ZnCo coating achieved by pulsed current electroplating and comparing them with those deposits prepared using direct current. The plating bath contained chloride ions and acid pH. The deposit crystalline morphology and structure was investigated by means of Scanning Electron Microscopy and X Ray Diffraction respectively, but the zinc quantity was determined by Inductively Coupled Plasma Spectroscopy. The experimental results showed free-deposition parameters for deposit morphology but not its cobalt content. Pulsed current deposits showed higher content of Co and crystalline orientation different of that obtained using direct current. The additive quantity required in the bath was smaller using pulsed current.